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深圳大學原子層沉積鍍膜設備通過驗收

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北京維意真空技術應用有限責任公司

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深圳大學原子層沉積鍍膜設備通過驗收

【摘要】:
2017年11月13日,北京維意真空技術應用有限責任公司完成了向深圳大學交付原子層沉積鍍膜設備的工作?! -ALD原子層沉積系統是專門為科研和工業小型化量產用戶而設計的多片沉積系統。該系統電氣完全符合CE標準,廣泛應用于微電子、納米材料、光學薄膜、太陽能電池等領域?! ∠冗M的軟件控制系統:系統集工藝配方、參數設置、權限設定、互鎖報狀態監控等功能于一體?! 】蛇_到的技術指標:  基片尺寸12英寸及

  2017年11月13日,北京維意真空技術應用有限責任公司完成了向深圳大學交付原子層沉積鍍膜設備的工作。

  T-ALD原子層沉積系統是專門為科研和工業小型化量產用戶而設計的多片沉積系統。該系統電氣完全符合CE標準,廣泛應用于微電子、納米材料、光學薄膜、太陽能電池等領域。

  先進的軟件控制系統:系統集工藝配方、參數設置、權限設定、互鎖報狀態監控等功能于一體。

  可達到的技術指標:

  基片尺寸 12英寸及以下尺寸

  基片加熱溫度 室溫~300℃

  前驅體源路數 標準3路前驅體管路,可選配

  前驅體管路溫度 室溫~200℃,控制精度±0.1℃

  源瓶加熱溫度 室溫~200℃,控制精度±0.1℃

  ALD閥 Swagelok快速高溫ALD專用閥

  本底真空 <5x10-3Torr,進口防腐泵

  載氣系統 N2或者Ar

  長模式 連續和停留沉積模式任意選擇

  控制系統 PLC+觸摸屏或者顯示器

  電源 50-60Hz,220V/20A交流電源

  沉積非均勻性 非均勻性<±1%

  設備尺寸 600mm x 600mm x 1100mm

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